坩堝是實驗或量產的常見耐高溫容器，以下是陶瓷坩堝簡介： 

1.石英坩堝

石英坩堝是以熔融石英為原料做成的，一般來說，使用溫度在1200℃以下。

有些為透明，有些成半透明。

在室溫下，會與HF與苛性鹼或是鹼金屬的碳酸鹽類反應。

2.瓷坩堝

瓷坩堝是表面上釉的瓷器，一般來說，使用溫度在1300℃以下。

在室溫下，會與HF與苛性鹼或是鹼金屬的碳酸鹽類反應。

要注意釉料的成分，若含有氧化鉛，可能會對加熱爐體或材料有污染。

3.氧化鋁坩堝（剛玉坩堝）

剛玉坩堝是以氧化鋁為原料，加上助燒結劑燒製而成。依純度分有兩種:

(1)純度99%以上使用溫度在1700℃以下。

(2)純度95%以上使用溫度在1400℃以下。

在高溫下，可用於無水Na₂CO₃等一些弱鹼性物質作熔融使用。不適於用Na₂O、NaOH等強鹼性物質和酸性物質作熔融使用。

4.氮化硼坩堝

氮化硼坩堝有三種:

(1)常壓BN坩堝：以六方氮化硼為原料，加上助燒結劑，以常壓燒結燒製而成。這種BN坩堝只能做簡易形狀，強度不高，不易加工。這種產品在市面上極少出現，多為廠商自製自用。

(2)熱壓BN坩堝：以六方氮化硼為原料，加上助燒結劑，以熱壓燒結燒製而成。這種BN坩堝強度較常壓BN坩堝高，可進行簡易加工。這是大尺寸BN坩堝常見的產品。

(3)PBN坩堝：以含硼氣體為原料，採CVD製程反應生成氮化硼坩堝（又稱PBN坩堝)，這樣的坩堝，尺寸控制精準且純度高，不易有揮發的雜質，因此常用在半導體或面板蒸鍍製程。

一般來說，氮化硼坩堝在真空下的使用溫度高達1800℃，氣氛保護下使用溫度最高可達2000℃，並可抵抗大部分熔融金屬的侵蝕。 

5.氧化鋯坩堝

有些是以鈣安定氧化鋯粉為原料燒製而成，一般來說，使用溫度在1600℃以下。

有些是以電融氧化鋯為原料燒製而成，使用溫度也在1600℃以下。

在高溫下，不會與熔融的鋁、鐵、鎳、鉑等金屬以及矽酸鹽和酸性爐渣等發生反應。

6.氧化鎂坩堝

以電融氧化鎂為原料燒製而成，一般來說，使用溫度在2000℃以下。

常用於熔融鋼料與合金粉等。

以上使用溫度與製造廠商、成份、純度、製程、坩堝晶粒大小與緻密性等有關，並非絕對值。